°æ±âµµ´Â 11ÀÏ ÄÚÆ®¶ó(KOTRA)°¡ °³ÃÖÇÑ ¡®Çѱ¹-³×´ú¶õµå ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ ¹ë·ùüÀÎ Çù·Â ¿þºñ³ª¡¯¿¡ Âü°¡ÇØ Çѱ¹ ¹ÝµµÃ¼ Ŭ·¯½ºÅÍ ÇöȲÀ» ¼Ò°³ÇÏ°í ³×´ú¶õµå ¹ÝµµÃ¼ ºÎÇ°¼ÒÀç ±â¾÷ÀÇ °æ±âµµ ÅõÀÚ¸¦ µ¶·ÁÇß´Ù.
¡®¹Ì·¡´Â ¹ÝµµÃ¼´Ù(The Future is Semiconductor)¡¯¶ó´Â Á¦¸ñÀ¸·Î ¹ÝµµÃ¼ °±¹ Çѱ¹°ú ³×´ú¶õµå °£ÀÇ »ýÅÂ°è °È¸¦ ¸ñÀûÀ¸·Î ¿¸° À̳¯ Çà»ç¿¡´Â Çѱ¹°ú ³×´ú¶õµå ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒºÎÀå ±â¾÷ 60°³ »ç°¡ Âü¼®Çß´Ù.
°æ±âµµ´Â ´ëÇѹα¹ÀÇ ¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ ´ëÇ¥ Áö¿ªÀ¸·Î ¿ëÀÎ, ÆòÅÃ, ¾È¼ºÀ» Æ÷ÇÔÇÑ °æ±âµµ ¹ÝµµÃ¼ ¸Þ°¡ Ŭ·¯½ºÅ͸¦ ¼Ò°³ÇÏ°í, ¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ÀÇ ÅõÀÚ °áÁ¤ ¿äÀÎ, ±Û·Î¹ú ±â¾÷À¯Ä¡ ¼º°ø »ç·Ê¿Í °æ±âµµÀÇ Áö¿øü°è¸¦ ¼³¸íÇß´Ù.
¶Ç ³×´ú¶õµå ´ëÇ¥±â¾÷ ASML µîÀÌ À§Ä¡ÇÑ ºê¶ó¹ÝÆ® ÁÖ¿¡¼ ³×´ú¶õµå ¹ÝµµÃ¼ Æ¯È Å¬·¯½ºÅ͸¦ ¼Ò°³ÇÏ°í Çѱ¹ ¹ÝµµÃ¼ ±â¾÷ÀÇ ³×´ú¶õµå ÁøÃâ°ú Çù·ÂÀ» ¿äûÇß´Ù.
À̳¯ Çà»ç¿¡¼´Â ÃÖÇüÂù ÁÖ³×´ú¶õµå Çѱ¹´ë»ç, ÇÇÅÍ ¹Ýµ¥ ºí·¿ ÁÖÇÑ ³×´ú¶õµå ´ë»ç°¡ Âü¼®ÇØ ÃàÇÏ ¸Þ½ÃÁö¸¦ ÀüÇßÀ¸¸ç, ÇѾ罺¸¶Æ® ¹ÝµµÃ¼¿¬±¸¿ø, ³×Æнº, ARCNL(The Advanced Research Center for Nanolithography), NXP µî ¾ç±¹ ÁÖ¿ä ¹ÝµµÃ¼ ±â¾÷ÀÇ Àåºñ¿Í »ý»ê °øÁ¤±â¼ú Æ®·£µå ¼Ò°³°¡ À̾îÁ³´Ù.
°æ±âµµ´Â Çѱ¹ ¹ÝµµÃ¼ »ç¾÷ü¼ö 48%, ÃâÇÏ¾× 78%, ºÎ°¡°¡Ä¡¾× 83%¸¦ âÃâÇØ ³»´Â Áö¿ªÀ̸ç, »ï¼º, SKÇÏÀ̴нº¿Í °°Àº °í°´»ç¿Í Àü±¹ÀÇ 64%ÀÇ »ê¾÷ ÀÎÀç°¡ ÁýÁߵŠÀÖ¾î ±¹³»¿Ü ¹ÝµµÃ¼ ±â¾÷ÀÇ ÅõÀÚ°¡ ÀÕµû¸£°í ÀÖ´Ù.
ƯÈ÷ Áö³ 5³â°£ ¾îÇöóÀ̵å¸ÓƼ¸®¾óÁî, ·¥¸®¼Ä¡, ASML, ¿Â¼¼¹ÌÄÁ´öÅÍ, ¸°µ¥ ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒºÎÀå ±â¾÷ µî ±Û·Î¹ú±â¾÷À¸·ÎºÎÅÍ ÃÑ 5Á¶ 5õ¾ï ¿øÀÇ ÅõÀÚ¸¦ À¯Ä¡Çß´Ù.
ÀÌ¹Î¿ì °æ±âµµ ÅõÀÚÅë»ó°úÀåÀº ¡°°æ±âµµ´Â Áö¿ª°ú ¾÷Á¾º° Àü¹® ÇÁ·ÎÁ§Æ® ¸Å´ÏÀú¸¦ µÎ°í Áö³ 25³â°£ ±Û·Î¹ú ±â¾÷ÀÇ ÅõÀÚ¸¦ À¯Ä¡ÇØ ¿À°í ÀÖ´Ù¡±¸ç ¡°ÀÚ±¹È¸¦ À§ÇØ °æÀï ÁßÀÎ ¹Ì±¹, ÀϺ», À¯·´À» ´ë»óÀ¸·Î Àû±ØÀûÀÎ ÅõÀÚ¼³¸íȸ´Â ¹°·Ð ±â¾÷ ¸ÂÃãÇü À¯Ä¡ È°µ¿À» Àü°³ÇÏ°í ÀÖ´Ù¡±°í ¸»Çß´Ù.